Следите за нами в социальных сетях:

Единая отраслевая платформа по электронике, микроэлектронике и новым технологиям
我们在俄罗斯为中国公司做广告
Семинары
Приглашаем подписаться на наш telegram-канал https://t.me/IndustryHunter, где мы публикуем новости, перепосты важных сообщений от ассоциаций и наших информационных партнеров, анонсы ближайших событий и многое другое

Вебинар «Современные материалы для процессов литографии в микроэлектронике»

1207

Онлайн
12 ноября 2020 г., 15.00

Приглашаем вас и ваших коллег принять участие в вебинаре по вопросам современных материалов для процессов литографии в микроэлектронике.

Темы вебинара:

  1. Плазмостойкие электронные резисты
  2. Фоторезисты общего применения
  3. Толстые фоторезисты для МЭМС и гальванического осаждения металлов
  4. Устойчивость фоторезистов в плазме
  5. Полимерные защитные покрытия для полупроводниковых пластин
  6. Резисты для обратной литографии
  7. Резисты для импринтной литографии 8. Новые сниматели фоторезистов

 

Докладчик:

Александр Скупов, главный специалист отдела технического сопровождения ООО «Остек-Интегра».

 

Дата проведения вебинара: 12 ноября 2020 г. в 15:00

 

Регистрация:

Для участия в вебинаре 12 ноября 2020 г. регистрируйтесь по ссылке: https://events.webinar.ru/27458241/6686889

Вопросы по участию в вебинаре и уточнению подробной информации направляйте на эл. почту: materials@ostec-group.ru или по телефону: +7 (495) 788-44-44 (доб.: 6340), начальник группы микроэлектроники ООО «Остек-Интегра» Галушко Алексей Валериевич.

 

Более подробная информация о вебинаре: https://ostec-group.ru/group-ostec/pressroom/events/vebinar-sovremennye-materialy-dlya-protsessov-litografii-v-mikroelektronike/ 

 

Подписаться на рассылку