Вебинар «Современные материалы для процессов литографии в микроэлектронике»
Онлайн
12 ноября 2020 г., 15.00

Приглашаем вас и ваших коллег принять участие в вебинаре по вопросам современных материалов для процессов литографии в микроэлектронике.
Темы вебинара:
- Плазмостойкие электронные резисты
- Фоторезисты общего применения
- Толстые фоторезисты для МЭМС и гальванического осаждения металлов
- Устойчивость фоторезистов в плазме
- Полимерные защитные покрытия для полупроводниковых пластин
- Резисты для обратной литографии
- Резисты для импринтной литографии 8. Новые сниматели фоторезистов
Докладчик:
Александр Скупов, главный специалист отдела технического сопровождения ООО «Остек-Интегра».
Дата проведения вебинара: 12 ноября 2020 г. в 15:00
Регистрация:
Для участия в вебинаре 12 ноября 2020 г. регистрируйтесь по ссылке: https://events.webinar.ru/27458241/6686889
Вопросы по участию в вебинаре и уточнению подробной информации направляйте на эл. почту: materials@ostec-group.ru или по телефону: +7 (495) 788-44-44 (доб.: 6340), начальник группы микроэлектроники ООО «Остек-Интегра» Галушко Алексей Валериевич.
Более подробная информация о вебинаре: https://ostec-group.ru/group-ostec/pressroom/events/vebinar-sovremennye-materialy-dlya-protsessov-litografii-v-mikroelektronike/

01-12-2023 07:12 241