Дорогущие литографические машины ASML оказались не нужны: Китай наладил выпуск 5-нм чипов без EUV
Китайская компания Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) предприняла шаг, который может кардинально изменить мировую полупроводниковую промышленность. Она освоила производство 5-нм чипов без использования литографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV).
Вместо этого SMIC добилась этого, используя старые инструменты глубокого ультрафиолета (DUV) в сочетании с очень сложным процессом, известным как Self-Aligned Quadruple Patterning (SAQP). Об этом рассказал аналитик полупроводниковой отрасли Уильям Хуо.
В течение многих лет в отрасли считали, что оборудование для EUV-литографии, производимое исключительно голландской компанией ASML, было незаменимым для изготовления чипов по технологии 5 нм и современнее. Без доступа к EUV-системам из-за экспортных ограничений, введенных США и их союзниками, большинство аналитиков полагали, что Китай остановится на отметке 7 нм.
Вместо этого SMIC продвигалась вперед, используя методы DUV, выжимая каждый нанометр из стареющих инструментов. По словам Хуо, это включало в себя наложение нескольких этапов литографии и травления, в частности, с использованием SAQP, чтобы имитировать точность EUV. Метод медленнее, более подвержен ошибкам и дорог, но он работает.
Стоит добавить, что современные литографические машины ASML на базе технологии High NA EUV размером с грузовик стоят более 300 миллионов евро.
Кроме того, ранее сообщалось, что компания Huawei готова начать массовые поставки своего усовершенствованного чипа для приложений искусственного интеллекта Huawei Ascend 910C китайским клиентам уже в следующем месяце.
Источник: https://www.ixbt.com/news/2025/04/24/asml-5-euv.html
Фото: ASML
25-04-2025 13:35 88
Industry Hunter
только что