Россия решила заменить сразу три западные установки для производства чипов: на отечественное оборудование для эпитаксии направят 2 миллиарда рублей

Изображение сгенерировано Gemini

Минпромторг запустил два проекта по импортозамещению оборудования для эпитаксии — технологии выращивания слоев кремния, кремний-германия и соединений на основе индия, алюминия, галлия и арсенида. Как выяснил CNews, разработки должны заменить установки американской Veeco, французской Riber и нидерландской ASM, поставки которых в Россию заблокированы.

На проект «Эпитаксия-SiGe» ведомство выделило 463,7 млн рублей. Он предполагает создание установки для выращивания слоев кремний-германия на кремниевых пластинах диаметром 200 мм методом газофазной эпитаксии — аналога нидерландской системы ASM Epsilon 2000. По техзаданию исполнитель должен разработать реактор, робот-загрузчик и модуль предэпитаксиальной очистки поверхности пластин. Работы должны быть завершены к июню 2029 года.

На проект «Цитадель» выделено 1,5 млрд рублей. Речь идет о разработке установки молекулярно-лучевой эпитаксии для получения гетероструктур на основе соединений индия, алюминия, галлия и арсенида. Эта система должна заменить оборудование Riber 49 (Франция) и Veeco GEN200 (США). Завершить работы планируется к октябрю 2030 года.

В обоих проектах отдельно прописано требование по использованию российских компонентов. Критические узлы — вакуумные камеры и насосы, молекулярные источники, запорно-вакуумная арматура, контроллеры и программное обеспечение — должны быть отечественного производства. Применение иностранных деталей допускается только в исключительных случаях и после согласования с Минпромторгом.

Источник: https://www.ixbt.com/news/2026/06/03/rossija-reshila-zamenit-srazu-tri-zapadnye-ustanovki-dlja-proizvodstva-chipov-na-otechestvennoe-oborudovanie-dlja.html