Следите за нами в социальных сетях:

Единая отраслевая платформа по электронике, микроэлектронике и новым технологиям
我们在俄罗斯为中国公司做广告
Новости электроники и микроэлектроники
Приглашаем подписаться на наш telegram-канал https://t.me/IndustryHunter, где мы публикуем новости, перепосты важных сообщений от ассоциаций и наших информационных партнеров, анонсы ближайших событий и многое другое

В Китае создано литографическое оборудование для производства полупроводниковой продукции по нормам 28 нм

| 806

Санкции США, ограничивающие использование американских технологий Китаем, не привели к остановке китайской полупроводниковой промышленности. Лишившись возможности закупать не только американское оборудование, но и оборудование, произведенное в других странах с использованием американских технологий, Китай выбрал единственно правильный путь — разработку собственных технологий.

Согласно новой информации, компания Shanghai Micro Electronic Equipment (SMEE) уже разработала литографическую установку, работающую в глубоком ультрафиолете (DUV). Ее поставки должны начаться в четвертом квартале 2021 года. Это оборудование подходит для выпуска продукции по нормам 28 нм. Безусловно, это не самый передовой техпроцесс, но в мире всего несколько производителей, способных выпускать такое оборудование. Крупнейшим из них является нидерландская компания ASML. Хотя в ее продукции доля американских технологий ниже порога, определенного в санкциях, по «просьбе» США ASML не поставляет его в Китай.

 

 

Источник: https://www.ixbt.com/news/2020/12/07/v-kitae-sozdano-litograficheskoe-oborudovanie-dlja-proizvodstva-poluprovodnikovoj-produkcii-po-normam-28-nm.html

 

Подписаться на рассылку

Вернуться к ленте новостей