Следите за нами в социальных сетях:

Единая отраслевая платформа по электронике, микроэлектронике и новым технологиям
我们在俄罗斯为中国公司做广告
Новости электроники и микроэлектроники
Приглашаем подписаться на наш telegram-канал https://t.me/IndustryHunter, где мы публикуем новости, перепосты важных сообщений от ассоциаций и наших информационных партнеров, анонсы ближайших событий и многое другое

В России появится свой передовой литограф для производства 10-нанометровых процессоров, но есть нюанс — ждать его придется долго

| 38

Изображение сгенерировано ChatGPT

 

Институт физики микроструктур Российской академии наук подготовил дорожную карту по созданию отечественных установок экстремальной ультрафиолетовой литографии. Самая передовая система, позволяющая производить процессоры и однокристальные системы по техпроцессу 10 нм (и меньше), появится примерно через 10 лет.

Российские литографы не будут похожи на литографы ASML. Так, в отечественных машинах планируется использовать совершенно иной набор технологий: гибридные твердотельные лазеры, источники света на основе ксеноновой плазмы и зеркала из рутения и бериллия. Выбор ксенона вместо олова, применяемого в машинах ASML, позволит избежать загрязнения фотошаблонов, что значительно снизит затраты на обслуживание. При этом, по сравнению с DUV-установками ASML, меньшая сложность конструкции позволит избежать использования иммерсионных жидкостей под высоким давлением.

Российские литографы не будут похожи на литографы ASML. Так, в отечественных машинах планируется использовать совершенно иной набор технологий: гибридные твердотельные лазеры, источники света на основе ксеноновой плазмы и зеркала из рутения и бериллия. Выбор ксенона вместо олова, применяемого в машинах ASML, позволит избежать загрязнения фотошаблонов, что значительно снизит затраты на обслуживание. При этом, по сравнению с DUV-установками ASML, меньшая сложность конструкции позволит избежать использования иммерсионных жидкостей под высоким давлением.

 

Фото: ИФМ РАН/Dmitrii Kuznetsov

 

Дорожная карта включает в себя три основных этапа:

  • Первый этап (2026–2028 годы): Создание литографа для 40-нанометрового техпроцесса со скоростью более пяти пластин в час;
  • Второй этап (2029–2032 годы): Разработка сканера, позволяющего выпускать CPU и SoC по техпроцессу 14 нм со скоростью более 50 пластин в час;
  • Третий этап (2033–2036 годы): Создание системы для производства чипов с разрешением менее 10 нм и скоростью более 100 пластин в час.

В каждом поколении литографов будет совершенствоваться оптическая система и эффективность сканирования, при этом стоимость единицы продукции должна быть гораздо ниже, чем в случае использования систем ASML Twinscan NXE и EXE.

 

 

Источник: https://www.ixbt.com/news/2025/09/30/v-rossii-pojavitsja-svoj-peredovoj-litograf-dlja-proizvodstva-10nanometrovyh-processorov-no-est-njuans--zhdat-ego.html

 

Подписаться на рассылку

Вернуться к ленте новостей