Следите за нами в социальных сетях:

Единая отраслевая платформа по электронике, микроэлектронике и новым технологиям
我们在俄罗斯为中国公司做广告
Новости электроники и микроэлектроники
Приглашаем подписаться на наш telegram-канал https://t.me/IndustryHunter, где мы публикуем новости, перепосты важных сообщений от ассоциаций и наших информационных партнеров, анонсы ближайших событий и многое другое

В России создан первый отечественный литограф с разрешением 350 нм. К 2026 году обещают установку с разрешением 130 нм

| 202

Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) объявил о завершении разработки и успешном прохождении государственной комиссии первого российского фотолитографа. Эта установка, способная создавать микросхемы с разрешением 350 нанометров, является ключевым элементом для развития отечественной микроэлектроники.

Новый литограф обладает рядом преимуществ по сравнению с предыдущими разработками. Площадь рабочего поля увеличена до 22х22 мм (с 3,2х3,2 мм), а максимальный диаметр обрабатываемых пластин — до 200 мм (с 150 мм). Впервые в российском литографе в качестве источника излучения используется не ртутная лампа, а более мощный и долговечный твердотельный лазер.

Разработка велась совместно с белорусской компанией «Планар» в рамках тендеров Минпромторга, выигранных ЗНТЦ в 2021 году. Сейчас центр адаптирует технологические процессы под нужды конечных потребителей и ведет переговоры о поставках первых установок для модернизации существующих и оснащения новых микроэлектронных производств. Одним из потенциальных заказчиков называется компания «Микрон». ЗНТЦ также планирует завершить разработку литографа с разрешением 130 нм к 2026 году.

 

 

Источник: https://www.ixbt.com/news/2025/03/24/350-2026-130.html

Фото: ЗНТЦ

 

Подписаться на рассылку

Вернуться к ленте новостей